——编者按——

2022年，是党的二十大召开之年。党的十八大以来的十年，以习近平同志为核心的党中央立足中华民族伟大复兴战略全局和世界百年未有之大变局，广开进贤之路、广聚天下英才，推动新时代人才工作取得历史性成就、发生历史性变革。越来越多的优秀留学归国人员勇担时代使命，在祖国提供的广阔平台中努力拼搏，发展成为各行业的领军人才，成为推动我国各项事业发展的重要力量。

中国留学人才发展基金会现推出“我们这十年——致敬党的十八大以来为中国各项事业发展作出突出贡献的留学人员及留学人员创业企业”专栏，广泛传播优秀留学归国人员代表人士充分运用所学所长，积极投身创新创业事业，报效祖国、贡献社会的动人故事。希望广大海内外留学人员发扬留学报国传统，树立爱国报国志向，勇担强国复兴梦想，为新时代党和国家事业发展作出新的更大的贡献！

中微：大国重器 志在巅峰

中微半导体设备(上海)股份有限公司（以下简称：中微）由优秀留学归国人员代表人士尹志尧创业建立，是一家以中国为基地、面向全球的高端半导体微观加工设备公司，深耕芯片制造刻蚀领域，曾研制出国内第一台电介质刻蚀机，是我国集成电路设备行业的领先企业。

从最初十几人的初创团队，到现在已逾千人的员工规模；从一家初创公司，到成长为科创板首批上市企业；从起步阶段的探索尝试，到高端设备全球客户满意度迭创佳绩，中微在十余年的发展过程中，深刻诠释了开拓进取、勇攀高峰的企业精神。

自2004年成立以来，中微致力于开发和提供具有国际竞争力的微观加工的高端设备，凭借其极具竞争优势的高端等离子体刻蚀机和MOCVD设备，成为国内高端微观加工设备企业的翘楚。

全球半导体设备市场由国外厂商主导，行业呈现高度垄断格局，“不对称竞争”成为我国集成电路设备产业的主要发展矛盾。成立之后，中微公司克服研发经费不对称、人才资源不对称、准入门槛不对称等重重困难，创造了多项成绩。

2007年，中微首台CCP刻蚀设备研制成功，自那时起，中微等离子体刻蚀设备不断突破创新，从65纳米到14纳米、7纳米、5纳米，其产品在全球集成电路加工制造及先进封装产业中广泛应用。

2015年，中微研发的刻蚀设备达到世界先进水平并实现量产，这一年，美国商务部在无奈之下发布公告，宣布解除对我国等离子刻蚀设备的出口管制。

2018年12月，中微自主研发的5纳米等离子体刻蚀机，经台积电验证，性能优良，应用于全球首条5纳米制程生产线。

2019年，中微公司等离子体刻蚀设备已用在国内外厂商55nm到5nm的众多芯片生产线上，其自主研发的刻蚀设备正在逐步打破国际领先企业在国内市场形成的垄断局面。这一年，中微成为我国科创板首批上市的25家企业之一。作为一家'硬科技'实力企业，中微在登陆科创板后，仍持续保持高水平的研发投入。大额的研发投入与较高的研发投入占比为专注高端微观加工设备的自主研发和创新提供了保障。上市3年以来，中微持续推动落实以研发创新为驱动的高质量增长策略，截至2021年年底，其申请专利达2012项，其中发明专利达1741项，已获授权专利达1179项，其中发明专利达993项。

十余年来，中微坚持自主创新，厚积薄发，取得了斐然的成绩。凭借技术创新与卓越品质的独特优势，在众多不同领域彰显出了“中国智造”与“中国质造”的强大竞争力，2019年和2021年，中微分别荣获首届上海市知识产权创新奖（保护类）与中国质量领域的最高荣誉——“中国质量奖提名奖”，在创新与品质两个维度获得权威认可。

此外，中微公司还在开发应用于集成电路后道的先进封装设备，以及MEMS、Mini LED等领域的国际先进设备产品。截至2021年底，中微公司共有2,300多个反应台服务于亚洲与欧洲50余家芯片制造公司的70余条生产线。

在保持高速发展的道路上，中微关注绿色发展，积极践行企业社会责任，通过不断探索和实践，助力国家“双碳”目标的实现与达成。今年4月，中微发布了首份《ESG 环境、社会及管治报告》，充分展示了其在提高产品质量与服务、完善治理机制、履行社会责任、保护环境等方面的系列举措及成效，也为广大科技企业提供经验参考。

目前，受通讯、汽车电子等产业强劲需求的推动，一方面半导体设备市场需求不断增大，另一方面芯片供应短缺传导至供应链各个环节，叠加国际政治、经济环境变化，局面愈加错综复杂。未来，中微公司如何继续在国际垄断的夹缝中突围辟新天，我们拭目以待。

来源：人民网、美通社、观察者网